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白光干涉仪高精度表征下超光滑样品表面瑕疵与工艺误差关联性研究

一、研究背景与检测技术优势超光滑样品是极紫外光学元件、半导体晶圆、高能激光器件等高端领域的核心基材，其表面微观划痕、麻点、凹凸缺陷及全域面形误差，会直接降低光学成...

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2026

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白光干涉仪高精度检测技术 严控光伏激光划线深度与薄膜分层良率

一、光伏量产检测痛点薄膜光伏量产的核心工序为P1/P2/P3激光结构化划线，是实现电池单片互联的关键工艺。光伏薄膜为多层堆叠结构，生产过程中易出现划线深度异常、膜...

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USI 白光扫描：多层微纳工件形貌检测数据异常（Data A...

本文基于商用白光干涉设备官方技术手册、半导体微纳检测国标规范及公开招标技术参数，分析USI（通用扫描干涉，Universal Scanning Interfero...

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USI 白光扫描：半导体复合结构虚拟凹凸、形貌畸变问题剖析（...

本文依据白光干涉设备官方公开参数、半导体行业检测标准及精密光学仪器公开技术白皮书，针对透明介质/金属基底半导体异质复合结构，剖析USI通用扫描干涉算法的形貌畸变、...

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